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电容膜片真空计的重大发展

更新时间:2013-10-28      点击次数:1932
     近年来,电容式薄膜真空计取得了重大进展,新型的双电容式薄膜真空计的问世,提高了该类真空计的精度,扩展了测量范围,使其测量下限可达lO-3Pa。根据弹性薄膜在压差作用下产生应变而引起电容变化的原理制成的真空计称为电容式薄膜真空计,它由电容式薄膜规管(又称为电容式压力传感器)和测量仪器两部分组成。根据测量电容的不同方法,仪器结构有偏位法和零位法两种。零位法是一种补偿法,具有较高的测量精度。目前在计量部门作为低真空副标准真空计的就是采用零位法结构。
   
    电容式薄膜规管的中间装着一张金属弹性膜片,在膜片的一侧装有一个固定电极,当膜片两侧的压差为零时,固定电极与膜片形成一个静态电容C0,它与电容C1串联后作为测量电桥的一条桥臂,电容C2、C3和C4与C5的串联电容组成其它三条桥臂。
 
    电容膜片真空计属于高精度温度补偿型真空计,在苛刻的生产环境中具有稳定的性能。数字电子学提高真空计的性能和易于使用的特点。如一键调零功能和设点调整。抗腐蚀性的超纯陶瓷传感器具有的零点稳定性与预期数百万次压强周期包括大气冲击的长使用寿命。*的传感器屏蔽(技术)保护真空计防止过程污染。坚固耐用的机械结构和数字电子学加强了EMC兼容性,长期稳定性和温度补偿性。CDG025D真空计为从电源接通后的快速稳定与暴露大气压后快速恢复等特性设定了新的标准。
 
    电容膜片真空计优点:全刻度范围从100毫乇。。。1000乇。电源接通后快速稳定。暴露大气压后快速恢复。抗腐蚀性陶瓷传感器。的长期讯号稳定性。温度补偿。保护传感器防止污染。一键调零功能。宽范围电源。两个设点。RS232接口。符合清洁室条件。
 
    电容膜片真空计用途:在要求高的应用中用于和快速的压强测量;用于刻蚀,CVD,PVD,ALD等半导体制造设备。数据贮存和显示制造设备。工业真空设备。一般高精度压强测量。
 
    电容膜片真空计特点:任意方向安装;放空快速响应,缩短周期时间;快速与可靠的读值,无需大气压调节;单一对数/线性模拟输出讯号,易于工艺集成;小型结构,节省有价值的工艺空间
 
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