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等离子(PLASMA)清洗常用的气体

更新时间:2023-06-28      点击次数:1631

等离子(PLASMA)清洗常用的气体 

     等离子清洗机中常用的工艺气体包括氧气、氩气、氮气、压缩空气、氢气、四氟化碳等。它利用气体电离产生的等离子体对工件表面进行处理。不同的工艺气体会被用来达到的处理效果,那么等离子清洗机中常用的工艺气体如何选择呢? 

氧气 

    氧气是等离子清洗常用的活性气体,属于物理+化学处理方式。电离后产生的离子可以物理轰击表面,形成粗糙的表面。同时,高活性氧离子可以与断裂的分子链发生化学反应,形成活性基团的亲水表面,从而达到表面活化的目的。 

     有机污染物的元素在断键后会与高活性氧离子发生化学反应,形成一氧化碳、二氧化碳、H2O等分子结构。从表面分离,从而达到表面清洁的目的。 

    氧气主要用于高分子材料的表面活化和有机污染物的去除,但不适合易氧化的金属表面。真空等离子体中的氧等离子体为浅蓝色,在局部放电条件下类似白色。放电环境光线明亮,肉眼观察真空室可能没有放电。 

氩气 

    氩气是一种惰性气体。电离后产生的离子不会与基底发生化学反应。主要用于等离子清洗中的物理清洗和基片表面粗糙化。最大的特点是在表面清洗时不会造成精密电子器件表面氧化。为此,氩等离子清洗机广泛应用于半导体、微电子、晶圆制造等行业。 

    真空等离子清洗机中氩气电离产生的等离子体为暗红色。在相同的放电环境下,氢气和氮气产生的等离子体颜色为红色,但氩气等离子体的亮度会低于氮气,高于氢气,易于区分。 

    等离子清洗设备的真空系统部分,真空计一般推荐使用 Inficon 的 PSG500 系列,真空阀门推荐使用中国台湾日扬的 KF16、KF25 和 KF40 的气动角阀。 

本公司专业服务和代理: 

1、英福康(Inficon)真空计、检漏仪、残余气体分析仪(RGA)、晶振片; 

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3、INFICON 设计和制造的 LINXON 残余气体分析仪(myRGA)、检漏仪(LX218); 

4、安捷伦真空泵、分子泵; 

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