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关于日扬WEH®涂装工艺介绍

更新时间:2023-12-20      点击次数:456

WEH ®涂装工艺介绍

“WEH ®涂装工艺"是一种纳米涂层工艺,成功应用于薄膜沉积和干刻蚀制程,是一种在真空环境下进行的高科技表面处理技术。该技术可以在材料表面上形成一层均匀、致密、具有特殊功能的薄膜,减少工艺残留物的粘附,提高材料的抗腐蚀性和使用寿命。

在电子领域,WEH ®真空涂层技术可以用于电子元器件、显示器、半导体、太阳能电池等产品的制造过程中,应用范围非常广泛

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WEH ®真空涂层介绍/ABOUT WEH®

常用于前级管道以减少副产品粘附的3M3700 涂层已于2021年停止生产。与此同时,WEH®涂层经过层层检验进入市场,它有许多优异的特性,如高硬度、高接触角、抗腐蚀等。目前WEH ® 已成功应用于某半导体厂商的排气系统,如厂区的气体管线、干泵和涡轮泵等,它有效帮助企业缓解了真空管道和设备内的粉尘颗粒堵塞问题。

1真空零件涂层的分类





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陶瓷类

环氧类

物性

薄,硬

厚,软

颜色

透明无色

黑色、绿色、白色

产品例

WEH ®, 3M 3700

Epoxy-base Teflon


2

WEH ®涂层的性质


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经过日扬科技一系列的产品测试和市场实例检验,WEH ®涂层较之其他的同类产品,有着良好的疏水性、耐温性、接着性抗腐蚀性,同时,其高硬度低粗糙度也符合真空零件纳米涂层的优异特性。在薄膜沉积系统和干刻蚀制程中,该涂层表现效果良好。

3

WEH ®涂层的作用


WEH ®涂层:有效延长使用寿命和零件保护


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WEH ®涂层有效保护了部分制程特别是例如AI-Pad、ALD和MOCVD制程中所需的设备与管道,在真空环境下的的薄膜沉积与干刻蚀系统中,设备与零件有着非常高的精度和技术要求,这意味着它们的维护周期对产线稼动率和生产效益的影响非常大。


4

WEH ®涂层的COA认证


WEH ®认证(Certified of Analysis,COA)

项目

规格

疏水性

油墨在表面无法书写

厚度

0.5~ 5um

粗糙度

≦ 1 um

断裂强度

≦ 6.0×10-9 mbarℓ/sec




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现场测试 Field Test at 5B


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—进行涂装WEH ® 处理的金属部件—


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从图中可以看出,在金属内壁进行WEH ®涂装处理后, 使得背压大幅降低,长时间不衰减。


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进行中的测试案例 5


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划格测试Cross-Cut Test


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划格测试采用的是3M 600 Scotch type,在切口边缘分离出小的WEH ®薄片,不大于 5% 的横切区域,表示符合4B ~ 5B的测试标准。


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接触角测试Contact Angle Test


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WEH ®具有106.15度的接触角,表示材料具有疏水性,不易产生残留物粘附。


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腐蚀性测试 Corrosion Test


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腐蚀测试步骤:

1.滴上数滴盐酸 HCl 在测试样品表面。

2.等待24 hr,测量腐蚀面积。

3.测试结果(腐蚀面积):

WEH ® < 3M3700 < Non Coating


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表面粗糙度测试Roughness Variation


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表面粗糙度对沉积的影响非常大,随时间的推移,零件的内表面容易造成残留物沉积,进而降低气体流速,影响反应速率。WEH ®涂层经试验测出对降低材料表面粗糙度有很大作用。


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硬度测试Hardness Test


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1.硬度测试根据ASTM D3363-22通过铅笔测试进行

2.环境温度:(23 +/- 2)℃

3.湿度: (50 +/- 5)%

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除去以上检验之外,WEH ®还通过了沉积物对比、电子能谱分析和等离子蚀刻测试,其蚀刻速率是氧化物的1/50,蚀刻速率小于0.5 nm/min,这意味着WEH®可以保护部件免受离子轰击的损坏。


好的证明是市场的证明,目前WEH ® 已成功应用于某半导体厂商的排气系统,它有效地缓解了电子器件制程中的设备粉尘颗粒阻塞问题。其优异的特性帮助客户拉长了设备维护周期,节省了大量维护成本。

日扬一直秉承着“成为客户有价值的伙伴"的企业使命,帮助客户发现问题、分析问题、解决问题。如果您需要更多关于WEH®的产品咨询,请联系我们。1 3 5 0 2 8 6 1 4 1 5



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