Technical Articles

技术文章

当前位置:首页  >  技术文章  >  镀膜机分类

镀膜机分类

更新时间:2013-05-02      点击次数:1634

真空镀膜机要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等 。

一、对于蒸发镀膜:
 
 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

 厚度均匀性主要取决于:
  1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
  2、基片表面温度
  3、蒸发功率,速率
  4、真空度
  5、镀膜时间,厚度大小。
 
 组分均匀性:

 蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。

 晶向均匀性:

  1、晶格匹配度
  2、基片温度
  3、蒸发速率

 溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

 溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。

0755-26028990
欢迎您的咨询
我们将竭尽全力为您用心服务
在线客服
添加好友
添加好友
版权所有 © 2024 深圳市科锐诗汀科技有限公司  备案号:粤ICP备13061707号
技术支持:仪表网  管理登陆  sitemap.xml