Download

资料下载

当前位置:首页  >  资料下载  >  磁控多弧离子镀膜机应用

磁控多弧离子镀膜机应用

发表时间:2011/7/15      点击次数:2282
     

磁控多弧离子镀膜机应用


      
应用:手机外壳,MP3外壳,数码相机外壳,表壳、表带、眼睛架、健身球、首饰、灯具、餐具、工艺美术品上,工具、刀具、模具等

         发展:多弧离子镀膜始于上个世纪70年代,采用真空环境下引火器引燃弧光放电源(阴极)与 真空室(阳极)之间形成自持弧光放电,使从阴极弧光辉点射出的阴极物质离子形成空间电荷层,产生强电场,使阴极表面上功函数小的开始发射电子;电流局部集 中产生的焦耳热使阴极材料局部地爆发性地等离子化,发射电子和离子,同时也放出熔融的阴极材料,在工件偏压的作用下与反应器件化合而沉积在工件表面上,从 而在工件上形成被镀的膜。多孤离子镀膜机离化率高沉积速度高,适用于镀制装饰膜和超硬耐磨膜。多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶,结合磁控溅 射低温、稳定的优点,适合镀单层膜和各种复合膜层。如:金色的氮化钛,黑色的碳化钛,七彩的氮氧化钛等,亦可镀防腐蚀膜(如:AL、Cr不锈钢及TiN 等)。

配置和技术参数:
 
真空室箱体:304不锈钢1600*1800mm,并可以根据客户具体要求设计非标产品
 夹具方式6公自转行星式齿轮结构,工件速度在1-30/分钟可调。
 控制气体方式:采用质量流量计控制,进气稳定,反映速度快。
 多弧靶:15套三组多弧蒸发源,从上到下五个弧源一组,真空室体两侧个一组,门上一组
磁控溅射阴极:圆柱靶磁控溅射阴极一套,Ф80X1600;严格缜密的磁场设计和磁场布局,刻蚀均匀。
 抽真空参数从大气抽至5*10‾³Pa≤15min 极限真空度8*10‾4Pa
 抽气系统:采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵,根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。
 电源:逆变电弧电源,磁控溅射可配置20KW中频电源或直流脉冲电源
▲PLC控制系统:有手动和自动,全系统具有互保护, 泵阀互锁

0755-26028990
欢迎您的咨询
我们将竭尽全力为您用心服务
在线客服
添加好友
添加好友
版权所有 © 2024 深圳市科锐诗汀科技有限公司  备案号:粤ICP备13061707号
技术支持:仪表网  管理登陆  sitemap.xml