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磁控溅射阴极技术及特点
磁控溅射阴极技术及特点
更新时间:2015-09-18 点击次数:1664
磁控溅射阴极
核心技术及特点:
1.特殊设计的磁体结构,使得磁场线跨度范围更宽,从而提高靶材的利用率和膜层的均匀性
2.湍流冷却技术,使得水流能够更平缓的进入阴极,从而提高冷却效果
3.特殊设计的耙材固定结构,使得耙材更换起来更简单,降低停工期
4.*的磁体材料 NdFeB,他的强度比其他的稀土磁体要强30%
磁控溅射阴极优势
1.*的靶材利用率,zui高可以达到50%,从而降低靶材成本
2.*的产品均匀性,zui高可以达到±3%
3.可以在更低的真空以及更高的功率下运行:zui低压力可以达到10-4TOR
4.我们的直接水冷结构可以提高其功率密度达到250Watt s/in2
5.提高沉积速率
6.多样的复合设计
7.高标准率
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