首页
关于我们
关于我们
企业简介
企业文化
荣誉资质
产品中心
新闻资讯
技术文章
视频中心
在线留言
联系我们
13926558058
News Center
新闻中心
新闻资讯
技术文章
视频中心
当前位置:
首页
>
新闻资讯
>
电容薄膜规的应情况介绍
电容薄膜规的应情况介绍
更新时间:2016-09-26 点击次数:1656
电容薄膜规
要求高的应用条件下,而快速的压强测量
1、用于刻蚀,CVD,PVD,ALD半导体设备制造,如太阳能光伏行业的PECVD用的很多,刻蚀上一般用陶瓷型的CDG025D-X3比较多,抗污染性能比较好。一般国内用的PECVD还有多晶炉上用的MKS的电容薄膜规622A/626A/627D和INFICON的CDG025D比较多,如德国Ruth&Rau公司的PECVD设备标配产品为MKS的626B13TDE和627D01TDC1B,质量流量计用的是1179BX23CR14VSPC1 800sccm/SiH4和1179BX5CR14NSPC1 2000sccm/NH3,国内用的好多PECVD设备上用的是INFICON的CDG025D。
2、资料贮存和显示器制造设备
3、工业真空设备
4、常用高精度真空测量
上一篇:
加热型薄膜规的七大优点
下一篇:
INFICON皮拉尼真空计应用行业
产品中心
IRC081离子基准真空计控制器
IRG080离子基准真空计 - 无源
VGC094真空计控制器
新闻中心
新闻资讯
技术文章
关于我们
公司简介
视频中心
荣誉资质
联系方式
在线留言
联系我们
0755-26028990
欢迎您的咨询
我们将竭尽全力为您用心服务
在线客服
添加好友
添加好友
版权所有 © 2024 深圳市科锐诗汀科技有限公司
备案号:粤ICP备13061707号
技术支持:
仪表网
管理登陆
sitemap.xml
13926558058
TEL:0755-26028990