磁控溅射铁磁性靶材增强磁控溅射阴极的磁场

增强溅射阴极磁场的另一种方法是采用高强磁体，通过强磁场饱和更厚的铁磁性靶材得到靶材表面需要的溅射磁场强度。但是高强磁铁的价格昂贵，同时采用这种方法增加靶材厚度的效果有限，而且由于强永磁体大小不能改变，这种方法会引起严重的等离子体磁聚现象。等离子体磁聚现象的产生使溅射区靶材很快消耗完而不能继续溅射，从而造成靶材利用率很低。

　　采用电磁线圈来产生高强磁场，通过调节电磁线圈的电流控制磁场大小来抑制等离子体磁聚。但这种方法的磁场装置复杂而且成本高，同时电磁线圈还受到溅射阴极尺寸的限制，从而使电磁场的强度受到限制，导致铁磁性靶材的厚度增加有限。

　　还可以采用永磁体与电磁体复合的方法解决等离子体磁聚的问题，在不同的溅射过程中调节电磁线圈，以产生大小合适的电磁场。这种方法的缺点是电磁源装置复杂，电磁线圈的使用也增加了设备成本和使用成本。