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详细介绍
品牌 | 其他品牌 | 产地 | 国产 |
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加工定制 | 否 |
质量流量控制器 V 系列 MFC
应用场景:MFC 既可应用于半导体前段制程,如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等设备中, 也在光伏能源、真空镀膜等领域有可观的市场。 MFC 可通过对气体流量的精准控制,有效地提供更高的良率。
该系列产品可广泛应用于半导体制造中的 etch(刻蚀)、CVD(化学气相沉积)、PVD(物理气相沉积)、ALD(原子层沉积)、MOCVD(金属有机化学气相沉积)等工艺设备中,也适用于如 MPCVD(微波等离子体化学气相沉积)、解热解冻干燥、石英提纯、医疗废弃物处理等领域。
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