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质量流量控制器

简要描述:P 系列 MFC质量流量控制器MFC 既可应用于半导体前段制程,如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等设备中, 也在光伏能源、真空镀膜等领域有可观的市场。
MFC 可通过对气体流量的精准控制,有效地提供更高的良率。

  • 产品型号:P 系列 MFC PG90
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2025-05-09
  • 访  问  量:50
  • 产品资料:

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质量流量控制器MFC P系列

P 系列 MFC 质量流量控制器是一款在气体流量控制领域具有高性能和可靠性的设备。以下是关于它的一些特点和应用方面的介绍:采用 改进单阀 + 压差 + 位置传感 设计 测量精度 ±�.�% S.P. (��% - ���% F.S.) 响应速度≤���ms(��% - ���% F.S.)。


特点

  • 高精度控制:采用先进的传感技术和控制算法,能够实现高精度的气体质量流量控制,可将测量误差控制在较低水平,满足各种对流量精度要求较高的工艺需求2

  • 快速响应:具备较短的响应时间,能够迅速对流量设定值的变化做出反应,快速调整气体流量,确保工艺过程的稳定性和一致性2

  • 宽量程范围:量程覆盖范围广,可适用于从微小流量到较大流量的不同应用场景,能满足多种工艺对气体流量大小的不同要求2

  • 多气体兼容:内置多种气体数据库,支持多种不同类型的气体,无需复杂的人工设置和转换,可方便地切换不同气体进行流量控制2

  • 良好的环境适应性:采用优质的材料和设计,具有较好的耐腐蚀性和抗干扰能力,能在不同的环境条件下稳定工作,适应多种工业环境2

  • 便捷的操作与通信:配备直观的操作界面,方便用户进行参数设置和监控,同时支持多种通信协议,可轻松与上位机或其他控制系统集成,实现远程操作和自动化控制。

应用领域

  • 半导体制造:在半导体工艺中,如刻蚀、化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)等过程中,精确控制各种工艺气体的流量,对于保证芯片制造的质量和一致性至关重要。例如,在刻蚀工艺中,精确控制四氟化碳、六氟化硫等刻蚀气体的流量,确保刻蚀反应按预定速率和方向进行;在 CVD 工艺中,精准控制硅烷、氨气等反应气体的流量,以保证沉积薄膜的化学成分、厚度和质量达标。

  • 生物医药:在药物研发、生物发酵等领域,用于精确控制各种气体的流量,如细胞培养过程中控制氧气、二氧化碳等气体的供应比例,以营造适宜的细胞生长环境;在药物生产中,对微量试剂气体的精确添加也需要高精度的 MFC 来实现。

  • 化工生产:在化工合成、精细化工等过程中,用于控制各种反应气体和原料气体的流量,确保化学反应的顺利进行和产品质量的稳定。例如,在一些有机合成反应中,精确控制氢气、氮气等气体的流量,以调节反应的速率和选择性。

  • 新能源:在新能源领域,如燃料电池的生产和测试过程中,需要精确控制氢气、氧气等气体的流量,以保证燃料电池的性能和稳定性;在太阳能电池的制造过程中,也会用到 MFC 来控制相关工艺气体的流量

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