CDG045D3CC1-351-2300 目前有现货,欢迎大家的咨询!
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CDG045D
CDG=Capacitance Diaphragm Gauge 电容薄膜规;045=45℃恒温加热;D = 数字型,带双路继电器设定点、0~10V 模拟输出
3CC1:接口与电气编码
3:标配2 路压力阈值继电器(SP1/SP2,镀膜机联锁工艺bi bei)
CC1:标准 15 针 D-Sub 模拟信号接口,0~10V 线性输出,无工业总线(EtherCAT/Profinet)
351:量程编码
351 = 0.1 Torr(100 mTorr)满量程
测量区间:0.0001~0.1 Torr,高精度中高真空规,不受气体种类影响(氩气 / 氧气 / 氮气读数一致)
2300:法兰规格
DN16 ISO-KF 快卸法兰(KF16),镀膜腔体通用标准接口
恒温:45℃控温,抑制温度漂移,等离子溅射工况长期稳定
精度:读数的 ±0.15%(高精度级,半导体 / 光学镀膜标配)
分辨率:0.003% FS
输出:0~10V DC 线性模拟信号,可直连 PGD500、VGC 控制器、PLC 采集
两路继电器设定点:无源触点,用于溅射腔真空联锁、工艺启停保护INFICON
响应速度:≤30ms,压力变化实时反馈
传感膜片:99.5% 高纯氧化铝陶瓷,耐等离子腐蚀、抗靶材溅射污染
真空接触面:316L 不锈钢,可轻度烘烤≤110℃法兰温度
允许过载:3bar;爆破压力 6bar,意外进气不易损坏
供电:14~30V DC(工业标准 24V 供电)
功耗低,预热速度比老款缩短 50%,开机快速进入稳定测量
搭配表头:PGD500(398-802) 单通道真空显示控制器,读取 CDG 压力数值、读取继电器阈值
工艺设备:ADL GXB/HXB 双极溅射电源,用于 PVD 磁控溅射腔体工艺真空精准监控
粗真空:PSG500 皮拉尼规 + PGD500
工艺高精度真空:CDG045D 0.1Torr 电容规
光学镀膜、ITO 氧化物、绝缘靶双极溅射生产线
半导体 PVD、CVD、蚀刻设备工艺压力闭环控制
高精度真空实验、薄膜沉积工艺真空闭环调节
等离子工艺,避免皮拉尼规气体修正误差

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